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标题
Multilayer Masking Technique for Deep Isotropic Silicon Wet Etching
深度各向同性硅湿法刻蚀的多层掩膜技术
相关领域
咬边 光刻胶 蚀刻(微加工) 材料科学 遮罩(插图) 图层(电子) 各向同性腐蚀 干法蚀刻 反应离子刻蚀 深反应离子刻蚀 抵抗 光电子学 光刻 复合材料 艺术 视觉艺术
网址
DOI
10.4028/www.scientific.net/amm.229-231.2444 doi
其它 期刊:Applied Mechanics and Materials
作者:Lei Nie; Jun Yu; Kun Zhang
出版日期:2012-11-01
求助人
Liu_Yolen 在 2024-09-10 07:55:07 发布自浙江,悬赏 30 积分
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