| 标题 |
 Investigation of Degradation Behavior During Illuminated Negative Bias Temperature Stress in P-Channel Low-Temperature Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors P沟道低温多晶硅薄膜晶体管在光照负偏压温度应力下的退化行为研究
相关领域
材料科学
薄膜晶体管
光电子学
多晶硅
压力（语言学）
阈值电压
晶体管
硅
降级（电信）
负偏压温度不稳定性
退火（玻璃）
薄膜
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：IEEE Electron Device Letters 作者：Yu-Xuan Wang; Ting-Chang Chang; Mao-Chou Tai; Chia-Chuan Wu; Yu-Fa Tu; et al 出版日期：2021-05-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
SYLH
请叫我风吹麦浪
kingwill
Hungrylunch
pcr163
36456657
zho
Leon
VDC
个性的紫菜
yar
浮浮世世
眯眯眼的衬衫
浦肯野
杳鸢
天真蓝
pluto
cc
无名老大
勤劳的忆寒
皖公网安备34019202002308
