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Evaluation of vapor pressure of MoO2Cl2 and its initial chemical reaction on a SiO2 surface by ab initio thermodynamics
用从头算热力学计算MoO2Cl2的蒸气压及其在SiO2表面的初始化学反应
相关领域
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期刊:Current Applied Physics 作者:Hyun-Kyu Kim; N. T. S. Lee; Yeong-Cheol Kim 出版日期:2024-03-01 |
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