Chemical–Mechanical Polishing of 4H Silicon Carbide Wafers

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标题	Chemical–Mechanical Polishing of 4H Silicon Carbide Wafers 4H碳化硅晶片的化学机械抛光相关领域化学机械平面化薄脆饼材料科学抛光碳化硅表面粗糙度表面光洁度数码产品纳米技术复合材料电气工程工程类
网址	https://doi.org/10.1002/admi.202202369
DOI	10.1002/admi.202202369 doi
其它	期刊：Advanced Materials Interfaces 作者：Wantang Wang; Xuesong Lu; Xinke Wu; Hao Gu; Rong Wang; et al 出版日期：2023-04-04
求助人	追逐者在 2024-11-18 15:48:41 发布自浙江，悬赏 10 积分
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