In-situ measurement method for surface temperature and normal spectral emissivity of TC-4 high-temperature alloy based on thin film interference mechanism model

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标题	In-situ measurement method for surface temperature and normal spectral emissivity of TC-4 high-temperature alloy based on thin film interference mechanism model 基于薄膜干涉机理模型的TC-4高温合金表面温度和法向光谱发射率原位测量方法相关领域发射率材料科学原位干扰（通信）合金温度测量薄膜光学复合材料热力学电气工程纳米技术气象学物理工程类频道（广播）
网址	https://doi.org/10.1016/j.measurement.2024.115591
DOI	10.1016/j.measurement.2024.115591 doi
其它	期刊：Measurement 作者：Yang Wang; Jingmin Dai; Yufeng Zhang; Lei Zhang 出版日期：2024-08-26
求助人	李昴星在 2024-11-13 09:53:03 发布自北京，悬赏 10 积分
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