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 Nanoimprint performance improvements for high volume semiconductor device manufacturing 用于大批量半导体器件制造的纳米压印性能改进
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Toshihiro Ifuku, Mitsuru Hiura, Yukio Takabayashi, Atsushi Kimura, Yoshio Suzaki, Toshiki Ito, Kiyohito Yamamoto, Byung Jin Choi, Teresa Estrada, Douglas J. Resnick |
| 求助人 | |
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