Development of a 5-kHz solid state 193-nm actinic light source for photomask metrology and review

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标题	Development of a 5-kHz solid state 193-nm actinic light source for photomask metrology and review 用于光掩模计量的5 kHz固态193 nm光化光源的研制与评述相关领域光掩模计量学光学材料科学激光器薄脆饼光学接近校正光电子学光源光功率光刻物理纳米技术抵抗图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.569428
DOI	10.1117/12.569428 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：James J. Jacob; Andrew J. Merriam 出版日期：2004-12-06
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