标题 |
专利、报告等 Quartz 9-inch size Mask Blanks for ArF PSM (Phase Shift Mask)
用于ArF PSM的石英9英寸掩模坯料(相移掩模)
相关领域
光掩模
小型化
平版印刷术
光刻
材料科学
薄脆饼
涂层
蚀刻(微加工)
微电子机械系统
抵抗
纳米技术
光电子学
光学
计算机科学
物理
图层(电子)
|
网址 | |
DOI | |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|