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 Study of silicon surface passivation by ZnOx/AlOx stack prepared using super-cycle approach in thermal ALD process 热ALD工艺中ZnOx/AlOx叠层对硅表面钝化的研究
相关领域
材料科学
钝化
堆栈（抽象数据类型）
硅
热的
过程（计算）
化学工程
光电子学
纳米技术
图层（电子）
计算机科学
物理
气象学
工程类
程序设计语言
操作系统
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期刊：Surfaces and Interfaces 作者：Abhishek Kumar; Meenakshi Devi; Shweta Tomer; Mrinal Dutta; P. Prathap; et al 出版日期：2024-04-01 |
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