Initial adsorption of trimethylsilane on Ge(100) surfaces

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标题	Initial adsorption of trimethylsilane on Ge(100) surfaces 三甲基硅烷在Ge（100）表面的初始吸附相关领域 X射线光电子能谱三甲基硅烷吸附电负性锗分子化学吸附化学朗缪尔结晶学分析化学（期刊）物理化学硅化学工程有机化学工程类
网址	https://doi.org/10.1002/(sici)1096-9918(199802)26:23.0.co;2-...
DOI	10.1002/(sici)1096-9918(199802)26:2<113::aid-sia350>3.0.co;2-u doi
其它	期刊：Surface and Interface Analysis 作者：Yufeng Qi; Jodi L. Sulak; William Durrer; J.H. Craig; P. W. Wang 出版日期：1998-02-01
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