Deposition temperature dependence of material and Si surface passivation properties of O3-based atomic layer deposited Al2O3-based films and stacks

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标题	Deposition temperature dependence of material and Si surface passivation properties of O3-based atomic layer deposited Al2O3-based films and stacks O_3基原子层沉积Al_2O_3基薄膜和叠层的材料温度依赖性及Si表面钝化性能相关领域钝化退火（玻璃）材料科学原子层沉积分析化学（期刊）沉积（地质）氧化物场效应图层（电子）化学气相沉积纳米技术冶金化学光电子学有机化学古生物学沉积物生物
网址	https://doi.org/10.1116/1.4852855
DOI	10.1116/1.4852855 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology. A. Vacuum, surfaces, and films 作者：S. Bordihn; Verena Mertens; Jörg Müller; W.M.M. Kessels 出版日期：2013-12-26
求助人	zhengling 在 2024-05-07 08:46:06 发布自陕西，悬赏 10 积分
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