Ion-bombardment-enhanced plasma etching of tungsten with NF3/O2

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标题	Ion-bombardment-enhanced plasma etching of tungsten with NF3/O2 NF3/O2离子轰击增强等离子体刻蚀钨相关领域钨离子化学蚀刻（微加工）四极杆质量分析仪离子源等离子体反应离子刻蚀分析化学（期刊）辉光放电等离子体刻蚀偏压原子物理学质谱法电极离子流电压物理化学有机化学物理量子力学色谱法图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1116/1.584216
DOI	10.1116/1.584216 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：W. Greene 出版日期：1988-09-01
求助人	陈陈在 2024-03-16 23:08:15 发布，悬赏 10 积分
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