Simulation and Optimization of Film Thickness Uniformity in Physical Vapor Deposition

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标题	Simulation and Optimization of Film Thickness Uniformity in Physical Vapor Deposition 物理气相沉积膜厚均匀性的模拟与优化相关领域材料科学薄膜物理气相沉积沉积（地质）蒸发反射（计算机编程）溅射光学化学气相沉积纳米光伏光电子学复合材料计算机科学纳米技术电气工程物理光伏系统工程类生物热力学古生物学程序设计语言沉积物
网址	https://www.mdpi.com/2079-6412/8/9/325/pdf
DOI	10.3390/coatings8090325 doi
其它	期刊：Coatings 作者：Ben Wang; Xiuhua Fu; Shigeng Song; Hin On Chu; Desmond Gibson; et al 出版日期：2018-09-17
求助人	蛙某人的夏天在 2024-09-24 16:27:26 发布自河南，悬赏 10 积分
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