Polishing of diamond, SiC, GaN based on the oxidation modification of hydroxyl radical: Status, challenges and strategies - 科研通

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标题	Polishing of diamond, SiC, GaN based on the oxidation modification of hydroxyl radical: Status, challenges and strategies 基于羟基自由基氧化改性的金刚石、SiC、GaN抛光研究现状、挑战与对策相关领域抛光钻石材料科学化学机械平面化泥浆半导体产量（工程）脆性化学工程纳米技术冶金光电子学复合材料工程类
网址	https://doi.org/10.1016/j.mssp.2023.107737
DOI	10.1016/j.mssp.2023.107737 doi
其它	期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Dong Shi; Wei Zhou; Tianchen Zhao 出版日期：2023-07-11
求助人	郭桑在 2025-03-11 16:01:11 发布自福建，悬赏 10 积分
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