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 Effects of the ultrasonic flexural vibration on the interaction between the abrasive particles; pad and sapphire substrate during chemical mechanical polishing (CMP) 超声弯曲振动对磨粒间相互作用的影响；化学机械抛光（CMP）过程中的焊盘和蓝宝石衬底
相关领域
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期刊：Applied Surface Science 作者：Wenhu Xu; Xinchun Lu; Guoshun Pan; Yuanzhong Lei; Jianbin Luo 出版日期：2010-10-26 |
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