标题 |
Isothermal aging and electromigration reliability of Cu pillar bumps interconnections in advanced packages monitored by in-situ dynamic resistance testing
通过原位动态电阻测试监测先进封装中Cu柱凸块互连的等温老化和电迁移可靠性
相关领域
电迁移
材料科学
可靠性(半导体)
等温过程
微观结构
金属间化合物
小型化
图层(电子)
复合材料
脆性
焊接
冶金
纳米技术
功率(物理)
物理
热力学
合金
量子力学
|
网址 | |
DOI | |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|