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The Discussion of the Typical BEOL Design Rules from 3 nm to 2 nm Logic Process with EUV and High NA EUV Lithography
EUV和高NA EUV光刻3~2 nm逻辑工艺BEOL典型设计规则的探讨
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期刊: 作者:Qiang Wu; Yanli Liu; Xiaona Zhu; Shaofeng Yu 出版日期:2021-12-12 |
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