Effect of annealing on the properties of plasma-enhanced atomic layer deposition grown HfO2 coatings for ultraviolet laser applications

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标题	Effect of annealing on the properties of plasma-enhanced atomic layer deposition grown HfO2 coatings for ultraviolet laser applications 退火对等离子体增强原子层沉积HfO2紫外激光涂层性能的影响相关领域退火（玻璃）材料科学杂质涂层原子层沉积化学计量学氧气氧化物还原气氛分析化学（期刊）紫外线单层薄膜化学工程纳米技术冶金化学光电子学工程类有机化学色谱法
网址	https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2023.169443
DOI	10.1016/j.jallcom.2023.169443 doi
其它	期刊：Journal of Alloys and Compounds 作者：Zesheng Lin; Meiping Zhu; Caixia Song; Tianbao Liu; Chunrong Yin; et al 出版日期：2023-06-01
求助人	雷老板在 2024-01-25 10:12:02 发布自上海，悬赏 10 积分
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