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Effects of postdeposition annealing under atmospheric conditions on the properties of amorphous conductive W-doped In2O3 deposited on glass substrates by reactive plasma deposition with direct current arc discharge
常压条件下沉积后退火对直流电弧放电反应等离子体沉积非晶态导电掺W In2O3性能的影响
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网址
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2024.131697
DOI
10.1016/j.surfcoat.2024.131697 doi
其它 期刊：Surface and Coatings Technology
作者：P. Rajasekaran; Makoto Maehara; Yugo Okada; Kimio Kinoshita; Tetsuya Yamamoto
出版日期：2024-12-01
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花开米兰城 在 2025-01-11 17:39:17 发布自江苏，悬赏 10 积分
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