High Aspect Ratio Carbon Hard Mask Etch Process for Profile and LCDU Control

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标题	High Aspect Ratio Carbon Hard Mask Etch Process for Profile and LCDU Control 用于轮廓和LCDU控制的高纵横比碳硬掩模蚀刻工艺相关领域蚀刻（微加工）鞠躬材料科学溅射纵横比（航空）聚合物沉积（地质）碳纤维光电子学深反应离子刻蚀反应离子刻蚀纳米技术复合材料薄膜图层（电子）地质学复合数古生物学哲学神学沉积物
网址	https://doi.org/10.1109/cstic61820.2024.10531956
DOI	10.1109/cstic61820.2024.10531956 doi
其它	期刊：作者：Mengjiao Zhu; Li-Tian Xu; Li Zeng; Hui Qin; Fangmin Guo 出版日期：2024-03-17
求助人	StevenZhao 在 2024-11-23 13:11:59 发布自湖北，悬赏 10 积分
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