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 The structure and hardness of magnetron sputtered Ti–Al–N thin films with low N contents (<42 at.%) 磁控溅射Ti-Al-N低氮（<42at。%）薄膜的结构和硬度
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期刊：Surface and Coatings Technology 作者：J.C. Oliveira; A. Manaia; J.P. Dias; A. Cavaleiro; D.G. Teer; et al 出版日期：2006-01-11 |
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