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 Mechanism study of H2-plasma assisted Si3N4 layered etch 氢等离子体辅助Si3N4层刻蚀机理研究
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Ying Rui; Sumeet C. Pandey; Meng-Hsien Chen; Lan Li 出版日期：2024-06-11 |
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