Water vapor transmission rate property of SiNx thin films prepared by low temperature (<100 °C) linear plasma enhanced chemical vapor deposition

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标题	Water vapor transmission rate property of SiNx thin films prepared by low temperature (<100 °C) linear plasma enhanced chemical vapor deposition 低温（<100℃）线性等离子体增强化学气相沉积SiNx薄膜的水蒸气透过率特性相关领域等离子体增强化学气相沉积材料科学薄膜化学气相沉积水蒸气硅烷光电子学复合材料分析化学（期刊）纳米技术化学有机化学色谱法
网址	https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2017.10.036
DOI	10.1016/j.vacuum.2017.10.036 doi
其它	期刊：Vacuum 作者：Seung-Jin Yun; Amir Abidov; Sungjin Kim; Jungsik Choi; Byeong Seong Cho; et al 出版日期：2018-02-01
求助人	瓜瓜的小日常在 2023-12-26 09:19:47 发布自陕西，悬赏 10 积分
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