| 标题 |
 Design of an extreme ultraviolet lithography projection objective with a grouping design method through forward and reverse real ray tracing 基于正向和反向真实光线跟踪的分组设计方法设计极紫外光刻投影物镜
相关领域
极紫外光刻
光线追踪（物理）
光学
极端紫外线
波前
失真（音乐）
计算机科学
光圈（计算机存储器）
平版印刷术
投影（关系代数）
数值孔径
物理
算法
波长
激光器
放大器
计算机网络
带宽（计算）
声学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Applied Optics 作者：Xu Yan; Yanqiu Li; Yuanhe Li; Lihui Liu; Ke Liu 出版日期：2022-08-25 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
昏睡的蟠桃
冰魂
cdercder
pluto
归尘
SYLH
sutharsons
zmnzmnzmn
科研助手6
iNk
科研小民工
bc
文献看不懂
8R60d8
震震
back you up
过时的奇迹
kingwill
顺心香菇
平常的毛豆
皖公网安备34019202002308
