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In situ monitoring and universal modelling of sacrificial PSG etching using hydrofluoric acid
氢氟酸牺牲PSG刻蚀的现场监测与通用模型
相关领域
氢氟酸
蚀刻(微加工)
微通道
材料科学
原位
纳米技术
反应离子刻蚀
各向同性腐蚀
分析化学(期刊)
光电子学
化学
冶金
色谱法
有机化学
图层(电子)
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期刊: 作者:Julie C. Liu; Yu‐Chong Tai; J. Lee; K.-C. Pong; Yitshak Zohar; et al 出版日期:2002-12-30 |
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