Atomic Layer Deposition of Ni Thin Films and Application to Area-Selective Deposition

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标题	Atomic Layer Deposition of Ni Thin Films and Application to Area-Selective Deposition Ni薄膜的原子层沉积及其在区域选择性沉积中的应用相关领域原子层沉积十八烷基三氯氢硅材料科学基质（水族馆）薄膜沉积（地质）图层（电子）镍化学工程纳米技术单层冶金海洋学生物古生物学沉积物地质学工程类
网址	https://doi.org/10.1149/1.3504196
DOI	10.1149/1.3504196 doi
其它	期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：Woo‐Hee Kim; Han‐Bo‐Ram Lee; Kwang Heo; Young Kuk Lee; Taek‐Mo Chung; et al 出版日期：2011-01-01
求助人	林小雨在 2024-08-29 16:20:43 发布自福建，悬赏 10 积分
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