| 标题 |
 Lithographic Performance of Aryl Epoxy Thermoset Resins as Negative Tone Photoresist for Microlithography 芳基环氧热固性树脂作为微光刻负性光刻胶的光刻性能
相关领域
光引发剂
光刻胶
环氧树脂
材料科学
热固性聚合物
光刻
平版印刷术
紫外线
溶剂
化学工程
聚合物
高分子化学
复合材料
光电子学
化学
有机化学
图层（电子）
单体
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Polymers 作者：Vitor Vlnieska; Margarita Zakharova; Alexander Mikhaylov; N. Kunka 出版日期：2020-10-14 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
个性的紫菜
pcr163
苏卿
彭于彦祖
oceanao
HEIKU
竹筏过海
xjcy
Singularity
嗯哼
寻道图强
Yziii
shinysparrow
不配.
梓泽丘墟
西红柿炒番茄
yufanhui
哎嘿
Renee
去火星种一颗芋头
皖公网安备34019202002308
