Origins of wear-induced tungsten corrosion defects in semiconductor manufacturing during tungsten chemical mechanical polishing

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标题	Origins of wear-induced tungsten corrosion defects in semiconductor manufacturing during tungsten chemical mechanical polishing 半导体制造中钨化学机械抛光磨损致钨腐蚀缺陷的成因相关领域化学机械平面化腐蚀抛光材料科学钨冶金薄脆饼泥浆溶解氧化物复合材料化学纳米技术物理化学
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2022.153767
DOI	10.1016/j.apsusc.2022.153767 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Sungyong Choi; Melissa E. Kreider; Adam C. Nielander; Michaela Burke Stevens; Gaurav A. Kamat; et al 出版日期：2022-10-01
求助人	悉尼的夜景在 2024-09-02 16:28:40 发布自天津，悬赏 10 积分
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