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 Development of a Deep Ultraviolet Positive-Tone Photoresist from the Sustainable Building Block Cyrene 利用可持续构件Cyrene开发深紫外光致抗蚀剂
相关领域
光刻胶
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期刊：Chemistry of Materials 作者：Yizhou Liu; Josua Markus; Han‐Hao Cheng; Paul V. Bernhardt; Andrew K. Whittaker; et al 出版日期：2025-01-28 |
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