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 Extending KrF lithography beyond 80nm with the TWINSCAN XT:1000H 0.93NA scanner 使用TWINSCAN XT：1000H 0.93 NA扫描仪将KrF光刻扩展到80nm以外
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Wim de Boeij; Gerald Dicker; Marten de Wit; Frank Bornebroek; Mark Zellenrath; et al 出版日期：2008-11-20 |
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