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CuC(O) Interfaces Deliver Remarkable Selectivity and Stability for CO2 Reduction to C2+ Products at Industrial Current Density of 500 mA cm−2
在工业电流密度为500 mA cm−2的情况下,铜C0 C(O)界面对C2+产物的二氧化碳还原具有显著的选择性和稳定性
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期刊:Small 作者:Ruian Du; Qiqi Wu; Shiyi Zhang; Peng Wang; Zheng Jian Li; et al 出版日期:2023-03-28 |
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