The mechanism of HF/H2O chemical etching of SiO2

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标题	The mechanism of HF/H2O chemical etching of SiO2 HF/H2O化学腐蚀SiO2的机理相关领域蚀刻（微加工）硅二氧化硅化学各向同性腐蚀干法蚀刻反应离子刻蚀氢缓冲氧化物腐蚀无机化学纳米技术分析化学（期刊）化学工程材料科学有机化学复合材料图层（电子）工程类
网址	http://dx.doi.org/10.1063/1.1420729
DOI	10.1063/1.1420729 doi
求助人	biliobili 在 2024-12-22 22:18:13 发布自上海，悬赏 10 积分
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