Three-temperature modeling of laser-induced damage process in silicon

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标题	Three-temperature modeling of laser-induced damage process in silicon 硅激光损伤过程的三温模拟相关领域硅电子材料科学激光器脉冲持续时间激发热的原子物理学温度电子放松（心理学）脉搏（音乐）分子物理学化学光学物理热力学光电子学心理学社会心理学量子力学探测器
网址	https://doi.org/10.35848/1882-0786/ac5edb
DOI	10.35848/1882-0786/ac5edb doi
其它	期刊：Applied Physics Express 作者：Prachi Venkat; Tomohito Otobe 出版日期：2022-03-17
求助人	srf0602. 在 2024-12-22 20:18:52 发布自天津，悬赏 10 积分
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