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 Si X-ray absorption near edge structure (XANES) of Si, SiC, SiO2, and Si3N4 measured by an electron probe X-ray microanalyzer (EPMA) 用电子探针X射线微分析仪(EPMA)测量Si、SiC、SiO2和Si3N4的Si X射线吸收近边缘结构(XANES)
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期刊：Spectrochimica Acta Part B Atomic Spectroscopy 作者：Jun Kawai; Hideyuki Takahashi 出版日期：1999-01-01 |
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