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 Radiation-induced charge trapping in Si-MOS capacitors with HfO2/SiO2 gate dielectrics HfO2/SiO2栅介质Si-MOS电容器中辐射诱导的电荷俘获
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期刊：Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B Beam Interactions with Materials and Atoms 作者：Jianmin Shi; Jialiang Wang; Xinwei Wang; Xiaofei Yu; Man Li; et al 出版日期：2020-06-30 |
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