标题 |
[高分]
![]() 高密度六方孔阵列的先进多重图案化技术
相关领域
德拉姆
多重图案
极紫外光刻
平版印刷术
电容器
材料科学
电容
临界尺寸
浸没式光刻
光电子学
下一代光刻
切片
缩放比例
纳米技术
计算机科学
电子工程
电气工程
电子束光刻
抵抗
光学
物理
电压
工程类
电极
万维网
几何学
量子力学
数学
图层(电子)
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊: 作者:Na-Young Bae; Sophie Thibaut; Toshiharu Wada; Andrew Metz; Akiteru Ko; et al 出版日期:2021-02-22 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|