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 Fabrication Process of Character Projection Mask for EB Lithography 电子束光刻用字符投影掩模的制作工艺
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Jun Takamatsu; Toru Koike; Yoshiyuki Kato Yoshiyuki Kato; H. Sunaoshi; Kiyoshi Hattori; et al 出版日期：1996-12-01 |
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