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标题
Silicon-Compatible Ferroelectric Tunnel Junctions with a SiO2/Hf0.5Zr0.5O2 Composite Barrier as Low-Voltage and Ultra-High-Speed Memristors
具有SiO2/Hf0.5Zr0.5O2复合势垒的硅相容铁电隧道结作为低压和超高速忆阻器
相关领域
材料科学 复合数 电压 光电子学 铁电性 纳米技术 电气工程 复合材料 电介质 工程类
网址
DOI
10.1002/adma.202211305 doi
求助人
秦辰儿 在 2024-12-13 22:54:19 发布自中国,悬赏 10 积分
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