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 Initial growth analysis of ALD Al2O3 film on hydrogen-terminated Si substrate via in situ XPS 端氢硅衬底上ALD Al2O3薄膜的原位XPS初步生长分析
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Hiroyuki Fukumizu; Makoto Sekine; Masaru Hori; Paul C. McIntyre 出版日期：2020-01-01 |
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