标题 |
Vertical Strain-Induced Modification of the Electrical and Spin Properties of Monolayer MoSi2X4 (X= N, P, As and Sb)
单层MoSi2X4(X=N、P、As和Sb)电学和自旋性质的垂直应变诱导改性
相关领域
凝聚态物理
单层
材料科学
半导体
带隙
半金属
直接和间接带隙
自旋(空气动力学)
价(化学)
拉伸应变
导带
价带
拉伤
极限抗拉强度
化学
物理
纳米技术
光电子学
电子
复合材料
内科学
热力学
有机化学
医学
量子力学
|
网址 | |
DOI |
暂未提供,该求助的时间将会延长,查看原因?
|
其它 |
期刊:arXiv (Cornell University) 作者:Shoeib Babaee Touski; Nayereh Ghobadi 出版日期:2021-06-13 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|