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The Hidden Potential of Polysilsesquioxane for High‐ k : Analysis of the Origin of its Dielectric Nature and Practical Low‐Voltage‐Operating Applications beyond the Unit Device
聚倍半硅氧烷用于高k的潜在潜力:分析其介电性质的起源和超越单元器件的实际低压工作应用
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期刊:Advanced Functional Materials 作者:Heqing Ye; Hyeok-jin Kwon; Su Cheol Shin; Hwiyoung Lee; Young Ho Park; et al 出版日期:2021-10-19 |
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