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标题
Investigation of silicon nitride for spacer via plasma-enhanced atomic layer deposition using a (tert-butylamino)dimethylsilane precursor
使用（叔丁基氨基）二甲基硅烷前体通过等离子体增强原子层沉积研究用于间隔物的氮化硅
相关领域
二甲基硅烷 原子层沉积 氮化硅 图层（电子） 硅 沉积（地质） 材料科学 氮化物 化学气相沉积 分析化学（期刊） 化学 化学工程 纳米技术 无机化学 冶金 有机化学 古生物学 沉积物 工程类 生物
网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2024.160715
DOI
10.1016/j.apsusc.2024.160715 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Chae Yeon Park; Hae Lin Yang; Hye-Mi Kim; Daejung Kim; Yongjoo Park; et al
出版日期：2024-07-09
求助人
黄憨憨 在 2024-12-29 00:13:13 发布自湖北，悬赏 10 积分
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