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Properties of low-resistivity molybdenum metal thin film deposited by atomic layer deposition using MoO2Cl2 as precursor
MoO2Cl2原子层沉积低电阻率金属钼薄膜的性能研究
相关领域
钼 原子层沉积 材料科学 图层（电子） 电阻率和电导率 金属 沉积（地质） 薄膜 冶金 化学工程 复合材料 纳米技术 地质学 电气工程 古生物学 沉积物 工程类
网址
https://pubs.aip.org/avs/jva/article-pdf/doi/10.1116/6.00033...
DOI
10.1116/6.0003361 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A
作者：So Young Kim; Chunghee Jo; Hyerin Shin; Dongmin Yoon; Donghyuk Shin; et al
出版日期：2024-03-27
求助人
金属玻璃兰兰 在 2024-11-29 16:56:52 发布自上海，悬赏 10 积分
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