标题 |
Appropriate choice of channel ratio in thin-film transistors for the exact determination of field-effect mobility
准确测定场效应迁移率的薄膜晶体管沟道比的适当选择
相关领域
功勋
场效应
半导体
频道(广播)
动性
薄膜晶体管
场效应晶体管
电场
晶体管
材料科学
光电子学
电子迁移率
领域(数学)
计算机科学
纳米技术
电气工程
工程类
物理
电信
数学
图层(电子)
电压
社会学
量子力学
社会科学
纯数学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Applied Physics Letters 作者:Kunihiro Okamura; Donna Nikolova; Norman Mechau; Horst Hahn 出版日期:2009-05-06 |
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|