Plasma‐Enhanced Chemical Vapor Deposition of Silicon Dioxide Using Tetraethylorthosilicate (TEOS)

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标题	Plasma‐Enhanced Chemical Vapor Deposition of Silicon Dioxide Using Tetraethylorthosilicate (TEOS) 正硅酸四乙酯(TEOS)等离子体增强化学气相沉积二氧化硅相关领域硅烷分析化学（期刊）化学气相沉积二氧化硅等离子体增强化学气相沉积氮气硅氧气氧化硅氧化物化学红外线的二氧化碳电场等离子体无机化学材料科学氮化硅光学有机化学冶金物理量子力学
网址	https://doi.org/10.1149/1.2096461
DOI	10.1149/1.2096461 doi
其它	期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：Ismail Emesh; Giulio D'Asti; Jacques S. Mercier; Pak C. Leung 出版日期：1989-11-01
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