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 Atomic layer deposition (ALD) technology for reliable RF MEMS 用于可靠射频MEMS的原子层沉积（ALD）技术
相关领域
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期刊： 作者：Nils Høivik; Jeffrey W. Elam; Steven M. George; K.C. Gupta; Victor M. Bright; et al 出版日期：2003-06-25 |
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