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标题
Inductively coupled plasma (ICP) dry etching of type II InAs/GaSb superlattice for focal plane arrays
焦平面阵列用II型InAs/GaSb超晶格的电感耦合等离子体干法刻蚀
相关领域
超晶格 蚀刻(微加工) 感应耦合等离子体 材料科学 反应离子刻蚀 干法蚀刻 光电子学 分析化学(期刊) 等离子体刻蚀 暗电流 等离子体 图层(电子) 纳米技术 化学 光电探测器 物理 量子力学 色谱法
网址
DOI
10.1117/12.2575638 doi
其它 期刊:
作者:Fei Tao; Xubo Zhu; JinChun Wang; Yingjie He; Jiaxin Ding; et al
出版日期:2020-11-05
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风中鹤 在 2024-12-31 10:14:22 发布自北京,悬赏 20 积分
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