Charge trapping characteristics in high-k gate dielectrics on germanium

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标题	Charge trapping characteristics in high-k gate dielectrics on germanium 锗上高k栅介质中的电荷俘获特性相关领域等离子体增强化学气相沉积俘获电介质氧化锗锗分析化学（期刊）高-κ电介质薄膜化学气相沉积化学计量学氧化物材料科学等离子体栅氧化层化学光电子学硅电压纳米技术电气工程晶体管物理化学冶金量子力学工程类物理色谱法生态学生物
网址	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2008.08.063
DOI	10.1016/j.tsf.2008.08.063 doi
其它	期刊：Thin solid films 作者：C. Mahata; M. K. Bera; P. K. Bose; C. K. Maiti 出版日期：2008-11-01
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