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 Dry etching of n- and p-type polysilicon: Parameters affecting the etch rate n型和p型多晶硅的干法刻蚀：影响刻蚀速率的参数
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Sören Berg; C. Nender; R. Buchta; H. Norström 出版日期：1987-07-01 |
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