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 A dual function metal oxide interlayer as an oxygen-defect inhibitor and a gate-leakage suppressor for a hysteresis-free, solution-processed top-gated IGZO TFT 一种用于无滞后、溶液处理的顶栅IGZO TFT的作为氧缺陷抑制剂和栅极泄漏抑制剂的双功能金属氧化物夹层
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期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Saravanan Kumaran; Bernice Karsten; Michael Zharnikov; Yian Tai 出版日期：2024-01-01 |
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